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痕量分析型超纯水系统
产品简介

Glimmer痕量分析型超纯水系统是一款以自来水或厂务水为进水水源的超纯水系统,专为痕量与超痕量元素分析检测设计。系统集成预处理、双级反渗透、双波长紫外光氧化、双超纯化柱及微滤等工艺,确保出水水质稳定。其核心技术UTA(超痕量保障技术)通过低溶出材料及双柱+中间水质传感器设计,有效降低二次污染风险。

产品型号:Glimmer
更新时间:2026-05-22
厂商性质:代理商
访问量:10
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Glimmer痕量分析型超纯水系统产品特点

低溶出材料:整机流路采用高纯度惰性材料,减少背景污染。

双柱+中间水质传感器:避免取用到不合格水,保障水质稳定。

袋式存储技术:结合开放式与压力式储水优点,避免空气污染。

耗材芯片管理:自动识别与追溯耗材,引导更换,维护直观。

物联网云平台:支持手机端远程查看水质、耗材寿命及运行状态。

TOC实时在线监测:可连续监测总有机碳,确保有机物控制效果。

 

Glimmer痕量分析型超纯水系统产品应用

半导体晶圆制造及封装检测

电子特气、湿电子化学品行业痕量杂质分析

ICP-MS、痕量IC检测

第三方检测实验室超纯水需求

高校及科研机构痕量分析实验

 

Glimmer痕量分析型超纯水系统产品参数

项目

参数

进水水源

市政自来水,5-40℃,压力1-6 bar

产水流量

20 L/H(双级反渗透,自动恒产量控制)

产水电阻率

18.2 MΩ·cm

TOC

<3 ppb(具备实时在线监测)

金属元素BEC

多元素<0.1 ppt(详见检测报告)

取水流速

≤2 L/min

电源

100-240V,50Hz,120W

外形尺寸(预处理+水箱一体单元)

W339×D410×H904 mm

外形尺寸(主机)

W374×D508×H538 mm

重量(预处理+水箱一体单元/主机)

15 kg / 24 kg

项目

参数

 

Glimmer痕量分析型超纯水系统产品参数

型号:Glimmer

产地:中国大陆

进水要求:市政自来水,1-6 bar,5-40℃

产水电阻率:18.2 MΩ·cm

TOC:<3 ppb

产水速率:20 L/H

设备功率:120W

主机尺寸:374×508×538 mm

主机重量:24 kg

储水容积:40L(标配,更大可选)


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